missing translation for 'onlineSavingsMsg'
Learn More
Learn More
Macherey-Nagel™ Dummy-Streifen
Zur Verwendung mit NucleoSpin 8-Well-Kits
Marke: Macherey-Nagel™ 740685
Dieser Artikel kann nicht zurückgegeben werden.
Rückgaberichtlinie anzeigen
Beschreibung
Das NucleoSpin™ Multi-8 Plasmid-Kit dient zur Reinigung von bis zu 25 μg Plasmid-DNA mit hoher Kopienzahl aus 1 bis 5 ml über Nacht angesetzter E. coli-Kulturen, die vorzugsweise in LB-Medien kultiviert werden.Die NucleoSpin™ Plasmid-Bindungsstreifen enthalten eine einzigartige Silikamembran, die DNA in Anwesenheit von chaotropischem Salz bindet. Nach einem modifizierten alkalischen Lyseverfahren werden bakterielle Lysate durch Zentrifugation geklärt. Gereinigte Lysate werden auf einzelne Wells der Plasmid-Bindungsstreifen geladen, die in der NucleoVac 96 Vakuumkammer angeordnet sind. Auf die Waschschritte folgt die Trocknung der Membran und der salzarmen Elution (5 mM Tris/HCl, pH 8.5) hochreiner Plasmid-DNA, die gebrauchsfertig ist und z. B. für die radioaktive und Fluoreszenzsequenzierung, das Bibliothek-Screening und die Klonierung geeignet ist. Alternativ kann für die Elution Wasser (pH 8.5) verwendet werden. Kit-Komponenten: NucleoSpin™ Plasmid-Bindungsstreifen, Puffer, RNase A, MN-Waschplatte, MN-Röhrchenstreifen, Kappenstreifen. Weitere Informationen zu diesem Produkt erhalten Sie vom Kundendienst.
Silika-Membran-Technologie
- Ausbeute: bis zu 25 μg sequenzierfähiger Plasmid-DNA
- Elutionsvolumen: 75 μl bis 150 μl
- Kulturvolumen: 1 bis 5 ml
- Bindungsvermögen: 25 μ g
- Maximale Plasmid-Größe < 15 kb
- Keine Verwendung organischer Lösungsmittel
Spezifikation
Dummy-Streifen | |
Nucleospin 8-Well-Kits | |
6 Packungen |
Produktvorschläge
Kunden, die diesen Artikel ansahen, interessierten sich auch für
Viewing 1-4 of
Berichtigung von Produktinhalten
Bitte geben Sie uns Ihr Feedback zu den Produktinhalten, indem Sie das folgende Formular ausfüllen.
Name des Produkts
Macherey-Nagel™ Dummy-Streifen >
Haben Sie Verbesserungsvorschläge?Übermitteln Sie eine inhaltliche Korrektur