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N-Octadecyltrichlorsilan, 95 %, enth. 5 bis 10 % verzweigte Isomere, Thermo Scientific Chemicals
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Menge:
50 g
250 g
1000 g
Beschreibung
n-Octadecyltrichlorosilane is used in semiconductor industry to form self-assembled monolayer thin films on silicon dioxide substrates. Used in molecular electronics, as thin insulating gates in Metal-Insulator-Semiconductor Field-Effect Transistors. It is also used in platinum catalyzed synthesis.
This Thermo Scientific Chemicals brand product was originally part of the Alfa Aesar product portfolio. Some documentation and label information may refer to the legacy brand. The original Alfa Aesar product / item code or SKU reference has not changed as a part of the brand transition to Thermo Scientific Chemicals.
Anwendungen
N-Octadecyltrichlorsilan wird in der Halbleiterindustrie zur Bildung von selbst zusammengesetzten einlagigen Dünnschichten auf Siliziumdioxid-Substraten verwendet. Wird in der Molekularelektronik als dünnes Isoliergate in metallisolierten Halbleiter-Feldeffekttransistoren verwendet. Es wird auch in der platinkatalysierten Synthese verwendet.
Löslichkeit
Es zersetzt sich in Wasser.
Hinweise
Feuchtigkeitsempfindlich. Kühl und trocken in dicht verschlossenen Behältern lagern. Unter trockenem Inertgas lagern. Von Wasser/Feuchtigkeit fernhalten.
N-Octadecyltrichlorsilan wird in der Halbleiterindustrie zur Bildung von selbst zusammengesetzten einlagigen Dünnschichten auf Siliziumdioxid-Substraten verwendet. Wird in der Molekularelektronik als dünnes Isoliergate in metallisolierten Halbleiter-Feldeffekttransistoren verwendet. Es wird auch in der platinkatalysierten Synthese verwendet.
Löslichkeit
Es zersetzt sich in Wasser.
Hinweise
Feuchtigkeitsempfindlich. Kühl und trocken in dicht verschlossenen Behältern lagern. Unter trockenem Inertgas lagern. Von Wasser/Feuchtigkeit fernhalten.
Spezifikation
Spezifikation
| Siedepunkt | 160°C to 162°C (3mmHg) |
| Chemischer Name oder Material | n-Octadecyltrichlorosilane |
| Schmelzpunkt | ∼20°C |
| Menge | 1000 g |
| Hinweise zum Prozentgehalt | enth. 5 bis 10 % verzweigte Isomere |
| Strukturformel | CH3(CH2)17SiCl3 |
| UN-Nummer | UN1800 |
| Beilstein | 1778847 |
| Flammpunkt | 189°C (372°F) |
| Löslichkeitsinformationen | Decomposes in water. |
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RUO – Research Use Only
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